Systems and methods for low resistivity physical vapor deposition of a tungsten film

WO2017070479 Art A1 27. April 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017070479
Aktenzeichen: EP16858300
Anmeldetag: 21. Oktober 2016
Veröffentlichung: 27. April 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/203C23C14/34H01L21/02H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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