Method for forming cvd-sic layer and cvd-sic layer formed by the method

WO2017070877 Art A1 4. Mai 2017

Anmelder: Ibiden Co., Ltd., Wuhan University Of Technology, Goto, Takashi 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017070877
Aktenzeichen: EP15906943
Anmeldetag: 29. Oktober 2015
Veröffentlichung: 4. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/32C23C16/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Ibiden Co., Ltd.
Wuhan University Of Technology
Goto, Takashi
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Ibiden

Ibiden ist ein japanischer Hersteller elektronischer Materialien mit Sitz in Ogaki, spezialisiert auf IC-Substrate für Halbleiter sowie Keramikprodukte für die Automobil- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von