Apparatus for sputtering and operation method thereof

WO2017071046 Art A1 4. Mai 2017

Anmelder: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017071046
Aktenzeichen: EP15907107
Anmeldetag: 25. Dezember 2015
Veröffentlichung: 4. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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