Polarization independent metrology system

WO2017071925 Art A1 4. Mai 2017

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017071925
Aktenzeichen: EP16778786
Anmeldetag: 6. Oktober 2016
Veröffentlichung: 4. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von