Method for manufacturing film formation mask

WO2017073369 Art A1 4. Mai 2017

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017073369
Aktenzeichen: EP16859599
Anmeldetag: 14. Oktober 2016
Veröffentlichung: 4. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04B23K26/18B23K26/38H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: V Technology Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

349 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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