Substrate processing apparatus, substrate processing apparatus adjustment method, device production system, and device production method

WO2017073608 Art A1 4. Mai 2017

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017073608
Aktenzeichen: EP16859838
Anmeldetag: 26. Oktober 2016
Veröffentlichung: 4. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G03F7/20G03F7/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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