Nozzle and substrate treatment apparatus and method comprising same

WO2017073952 Art A1 4. Mai 2017

Anmelder: Amosense Co. Ltd., SNU R&DB Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017073952
Aktenzeichen: EP16860135
Anmeldetag: 20. Oktober 2016
Veröffentlichung: 4. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/67H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Amosense Co. Ltd.
SNU R&DB Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 SNU R&DB Foundation

Südkoreanische Stiftung der Seoul National University für Forschungsförderung und Technologietransfer, verwaltet Patente und Kooperationen mit der Industrie.

592 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von