Apparatus for vacuum deposition on a substrate and method for masking the substrate during vacuum deposition

WO2017074484 Art A1 4. Mai 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017074484
Aktenzeichen: EP16703246
Anmeldetag: 29. Januar 2016
Veröffentlichung: 4. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C16/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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