An apparatus and method of forming a polishing article that has a desired zeta potential

WO2017074773 Art A1 4. Mai 2017

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017074773
Aktenzeichen: EP16860529
Anmeldetag: 20. Oktober 2016
Veröffentlichung: 4. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/24B24B37/26B24B37/22B24D18/00B32B27/00B32B3/10B33Y80/00B29C67/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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