Etched diffraction grating device with uniform channel loss and flat passband response
WO2017075977
Art A1
11. Mai 2017
Anmelder: Zhejiang University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017075977
- Aktenzeichen
- EP16861248
- Anmeldetag
- 25. Mai 2016
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B5/18G02B6/293G02B6/124G02B6/136
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zhejiang University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Zhejiang University
Chinesische Universität mit Sitz in Hangzhou, eine der führenden Forschungshochschulen Chinas mit breitem Fächerspektrum einschließlich Ingenieurwissenschaften und Materialforschung.
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