Multilayer reflector, method of manufacturing a multilayer reflector and lithographic apparatus

WO2017076694 Art A1 11. Mai 2017

Anmelder: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten, Stichting VU, ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017076694
Aktenzeichen: EP16785495
Anmeldetag: 25. Oktober 2016
Veröffentlichung: 11. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/24G02B5/08G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten
Stichting VU
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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