Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method and electronic device manufacturing method

WO2017078031 Art A1 11. Mai 2017

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017078031
Aktenzeichen: EP16862091
Anmeldetag: 1. November 2016
Veröffentlichung: 11. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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