Anordnung für eine Lithographieanlage und Lithographieanlage

WO2017080855 Art A1 18. Mai 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017080855
Aktenzeichen: EP16790942
Anmeldetag: 28. Oktober 2016
Veröffentlichung: 18. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/06G02B26/00G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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