Method for manufacturing laminate, method for manufacturing semiconductor device, and laminate
WO2017082269
Art A1
18. Mai 2017
Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017082269
- Aktenzeichen
- EP16864230
- Anmeldetag
- 9. November 2016
- Veröffentlichung
- 18. Mai 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02B32B7/12C09J201/00H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJI-FILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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