Method of etching object to be processed

WO2017082373 Art A1 18. Mai 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017082373
Aktenzeichen: EP16864334
Anmeldetag: 11. November 2016
Veröffentlichung: 18. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23F4/00H01L21/683H01L21/8246H01L27/105H01L43/08H01L43/12H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von