Mask blank having resist layer, method for manufacturing mask blank having resist layer, and method for manufacturing transfer mask

WO2017086196 Art A1 26. Mai 2017

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017086196
Aktenzeichen: EP16866198
Anmeldetag: 7. November 2016
Veröffentlichung: 26. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/40G03F7/039G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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