Systems and methods to avoid instability conditions in a source plasma chamber

WO2017087169 Art A1 26. Mai 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017087169
Aktenzeichen: EP16866844
Anmeldetag: 1. November 2016
Veröffentlichung: 26. Mai 2017
Rechtsraum: WO
IPC: A61N5/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit

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