Inert anode electroplating processor and replenisher with anionic membranes
WO2017087253
Art A1
26. Mai 2017
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017087253
- Aktenzeichen
- EP16866882
- Anmeldetag
- 10. November 2016
- Veröffentlichung
- 26. Mai 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/288H01L21/28H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.780 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.