Charged particle beam device, observation method using charged particle beam device, and, program
WO2017090100
Art A1
1. Juni 2017
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017090100
- Aktenzeichen
- EP15909219
- Anmeldetag
- 25. November 2015
- Veröffentlichung
- 1. Juni 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/24H01J37/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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