Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder einer Waferinspektionsanlage

WO2017092995 Art A1 8. Juni 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017092995
Aktenzeichen: EP16801721
Anmeldetag: 10. November 2016
Veröffentlichung: 8. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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