Radiation-sensitive composition, pattern forming method and radiation-sensitive acid generator

WO2017094479 Art A1 8. Juni 2017

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017094479
Aktenzeichen: EP16870418
Anmeldetag: 11. November 2016
Veröffentlichung: 8. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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