Apparatus and method for manufacturing semiconductor device

WO2017094568 Art A1 8. Juni 2017

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017094568
Aktenzeichen: EP16870505
Anmeldetag: 22. November 2016
Veröffentlichung: 8. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C25D5/00C25D5/18C25D7/12C25D21/12H01L21/288

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von