Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device

WO2017094874 Art A1 8. Juni 2017

Anmelder: Tohoku University, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017094874
Aktenzeichen: EP16870809
Anmeldetag: 2. Dezember 2016
Veröffentlichung: 8. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/60B23K20/00H01L25/065H01L25/07H01L25/18H01R11/01H05K1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tohoku University
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

2.158 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von