Method and apparatus for cleaning substrates using high temperature chemicals and ultrasonic device

WO2017096553 Art A1 15. Juni 2017

Anmelder: ACM Research (Shanghai) Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017096553
Aktenzeichen: EP15910028
Anmeldetag: 9. Dezember 2015
Veröffentlichung: 15. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: B01D19/00F04B23/00F04B15/04B05C5/00B05C11/10B05D1/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ACM Research (Shanghai) Inc.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Verfahrens- & Trenntechnik

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