Anti-contamination trap, control method therefor, and charged particle beam device

WO2017098574 Art A1 15. Juni 2017

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017098574
Aktenzeichen: EP15910191
Anmeldetag: 8. Dezember 2015
Veröffentlichung: 15. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/16H01J37/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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