Cleaning liquid, method for cleaning substrate, and method for manufacturing semiconductor device

WO2017099211 Art A1 15. Juni 2017

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017099211
Aktenzeichen: EP16873104
Anmeldetag: 9. Dezember 2016
Veröffentlichung: 15. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/32C11D17/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von