X-ray scatterometry metrology for high aspect ratio structures

WO2017099870 Art A1 15. Juni 2017

Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2017099870
Aktenzeichen
EP16873513
Anmeldetag
30. September 2016
Veröffentlichung
15. Juni 2017
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/66G03F7/20G01N23/083
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KLA-Tencor Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von

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