Adjustment of a metrology apparatus or a measurement thereby based on a characteristic of a target measured

WO2017102304 Art A1 22. Juni 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017102304
Aktenzeichen: EP16804759
Anmeldetag: 29. November 2016
Veröffentlichung: 22. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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