Optimization of source and bandwidth for new and existing patterning devices

WO2017102321 Art A1 22. Juni 2017

Anmelder: Cymer, LLC, ASML Netherlands B.V. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017102321
Aktenzeichen: EP16805763
Anmeldetag: 30. November 2016
Veröffentlichung: 22. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Cymer, LLC
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇺🇸 USA

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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