Droplet generator for lithographic apparatus, euv source and lithographic apparatus

WO2017102931 Art A1 22. Juni 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017102931
Aktenzeichen: EP16819498
Anmeldetag: 15. Dezember 2016
Veröffentlichung: 22. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von