Resist composition, resist film, mask blank, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device

WO2017104355 Art A1 22. Juni 2017

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017104355
Aktenzeichen: EP16875339
Anmeldetag: 21. November 2016
Veröffentlichung: 22. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F246/00G03F7/004G03F7/038G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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