Pattern formation method, method for manufacturing electronic device, monomer for manufacturing resin for semiconductor device manufacturing process, resin, method for manufacturing resin, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film
WO2017110290
Art A1
29. Juni 2017
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017110290
- Aktenzeichen
- EP16878188
- Anmeldetag
- 10. November 2016
- Veröffentlichung
- 29. Juni 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F30/04G03F7/038G03F7/039G03F7/075G03F7/20G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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