Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, and electronic device production method

WO2017110352 Art A1 29. Juni 2017

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017110352
Aktenzeichen: EP16878246
Anmeldetag: 22. November 2016
Veröffentlichung: 29. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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