Method for producing sic epitaxial wafer

WO2017110550 Art A1 29. Juni 2017

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017110550
Aktenzeichen: EP16878441
Anmeldetag: 12. Dezember 2016
Veröffentlichung: 29. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/42C30B29/36H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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