Pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and resin composition for pattern inversion

WO2017110658 Art A1 29. Juni 2017

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017110658
Aktenzeichen: EP16878548
Anmeldetag: 15. Dezember 2016
Veröffentlichung: 29. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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