Electrochemical etching of multiple silicon materials

WO2017112772 Art A1 29. Juni 2017

Anmelder: William Marsh Rice University, Lockheed Martin Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017112772
Aktenzeichen: EP16880025
Anmeldetag: 21. Dezember 2016
Veröffentlichung: 29. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/02C25F1/04C25F3/02C25F3/12C25F5/00H01B1/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: William Marsh Rice University
Lockheed Martin Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lockheed Martin

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Rüstungskonzern mit Sitz in Maryland, tätig in Entwicklung von Kampfflugzeugen, Raketensystemen, Satelliten und Verteidigungstechnik.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von