Formation of porous silicon materials with copper-containing pores

WO2017112880 Art A1 29. Juni 2017

Anmelder: William Marsh Rice University, Lockheed Martin Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017112880
Aktenzeichen: EP16880100
Anmeldetag: 22. Dezember 2016
Veröffentlichung: 29. Juni 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L23/498

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: William Marsh Rice University
Lockheed Martin Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lockheed Martin

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Rüstungskonzern mit Sitz in Maryland, tätig in Entwicklung von Kampfflugzeugen, Raketensystemen, Satelliten und Verteidigungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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