Method and device for focusing in an inspection system

WO2017114641 Art A1 6. Juli 2017

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017114641
Aktenzeichen: EP16806090
Anmeldetag: 6. Dezember 2016
Veröffentlichung: 6. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von