Etch-Assist Features

WO2017114725 Art A1 6. Juli 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017114725
Aktenzeichen: EP16823277
Anmeldetag: 21. Dezember 2016
Veröffentlichung: 6. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F1/70G03F1/80G06F17/50H01L21/033H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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