Resist pattern forming method and method for determining development conditions

WO2017115622 Art A1 6. Juli 2017

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017115622
Aktenzeichen: EP16881601
Anmeldetag: 6. Dezember 2016
Veröffentlichung: 6. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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