Method for manufacturing sputtering target

WO2017115648 Art A1 6. Juli 2017

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017115648
Aktenzeichen: EP16881627
Anmeldetag: 13. Dezember 2016
Veröffentlichung: 6. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/105B22F3/16B22F5/00B33Y10/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von