Improving Ion Implant Plasma Flood Gun (prg) Performance By Using Trace Insitu Cleaning Gas in Sputtering Gas Mixture
WO2017117053
Art A1
6. Juli 2017
Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017117053
- Aktenzeichen
- EP16831681
- Anmeldetag
- 23. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 6. Juli 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/317H01J37/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Entegris, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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