Defect inspection apparatus

WO2017119028 Art A1 13. Juli 2017

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017119028
Aktenzeichen: EP16883534
Anmeldetag: 12. Dezember 2016
Veröffentlichung: 13. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956B65G49/07H01L21/66H01L21/677H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verpackungs- & Fördertechnik

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