Treatment liquid, method for cleaning substrate and method for manufacturing semiconductor device

WO2017119244 Art A1 13. Juli 2017

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017119244
Aktenzeichen: EP16883744
Anmeldetag: 13. Dezember 2016
Veröffentlichung: 13. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/08C11D7/10C11D7/26C11D7/32C11D7/50C11D17/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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