A method of forming a thin film through-hole membrane
WO2017119850
Art A1
13. Juli 2017
Anmelder: Singapore University of Technology and Design, National University of Singapore 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017119850
- Aktenzeichen
- EP17736185
- Anmeldetag
- 9. Januar 2017
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01D67/00B01D39/16B01D69/12B01D29/00B01D46/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Singapore University of Technology and Design
National University of Singapore - Land
- 🇸🇬 Singapur
🇸🇬
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