Systems and methods for shielding features of a workpiece during electrochemical deposition
WO2017120003
Art A1
13. Juli 2017
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2017120003
- Aktenzeichen
- EP16884168
- Anmeldetag
- 14. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2017
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C25D17/00C25D5/02C25D21/10C25D5/18C25D5/04C25D17/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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