Vorrichtung zum Bereitstellen eines Prozessgases in einer Beschichtungseinrichtung

WO2017121704 Art A1 20. Juli 2017

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017121704
Aktenzeichen: EP17700915
Anmeldetag: 10. Januar 2017
Veröffentlichung: 20. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/448C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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