Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, and acid diffusion control agent

WO2017122528 Art A1 20. Juli 2017

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017122528
Aktenzeichen: EP16885129
Anmeldetag: 26. Dezember 2016
Veröffentlichung: 20. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F220/28G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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