Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, acid diffusion control agent, and compound

WO2017122697 Art A1 20. Juli 2017

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017122697
Aktenzeichen: EP17738451
Anmeldetag: 11. Januar 2017
Veröffentlichung: 20. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/69C07D295/084C07D295/15G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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