Position sensing arrangement and lithographic apparatus including such an arrangement, position sensing method and device manufacturing method

WO2017125352 Art A1 27. Juli 2017

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2017125352
Aktenzeichen: EP17700441
Anmeldetag: 16. Januar 2017
Veröffentlichung: 27. Juli 2017
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G01B9/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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